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基礎(chǔ)信息Product information
產(chǎn)品名稱:

氣氛型可調(diào)高溫加熱裝置

產(chǎn)品型號(hào):

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

所在地:北京市

更新日期:2024-10-25

產(chǎn)品簡(jiǎn)介:

氣氛型可調(diào)高溫加熱裝置HCTD系列/HCHD系列可以進(jìn)行太陽(yáng)能電池/化合物半導(dǎo)體等的工藝開(kāi)發(fā)和各種應(yīng)用程序的安裝。此系列是將紅外線反射爐和溫度控制器組合,并且還將石英的熱處理室緊湊地裝備起來(lái)的高速加熱、冷卻裝置。也可以根據(jù)用戶的需要進(jìn)行定制。

產(chǎn)品特性Product characteristics
品牌華測(cè)

產(chǎn)品介紹:

 中小型高溫爐是工業(yè)生產(chǎn)與科研中常用的設(shè)備之一。目前高溫爐基本均采用硅鉬棒、硅碳棒作為加熱體,升溫速率慢、無(wú)法實(shí)現(xiàn)變溫環(huán)境模擬,且不同氣氛環(huán)境難以共用。

 氣氛型可調(diào)高溫加熱裝置HCTD系列/HCHD系列可以進(jìn)行太陽(yáng)能電池/化合物半導(dǎo)體等的工藝開(kāi)發(fā)和各種應(yīng)用程序的安裝。此系列是將紅外線反射爐和溫度控制器組合,并且還將石英的熱處理室緊湊地裝備起來(lái)的高速加熱、冷卻裝置。也可以根據(jù)用戶的需進(jìn)行定制。


氣氛型可調(diào)高溫加熱裝置


儀器規(guī)格:

型號(hào)

HCTD-1400

HCTD-1200A

HCTD-1200B

加熱方式

近紅外橢圓反射

紅外拋物面反射聚光

溫度范圍

RT~1400℃

RT~1200℃

熱處理區(qū)

Φ15mm×長(zhǎng)100mm

Φ50mm×長(zhǎng)100mm

Φ50mm×長(zhǎng)150mm

均熱去(加熱時(shí))

Φ10mm×長(zhǎng)80mm

Φ40mm×長(zhǎng)80mm

Φ40mm×長(zhǎng)120mm

冷卻方式

從腔內(nèi)石英噴嘴噴出氣體

儀器特點(diǎn):

設(shè)定從高速加熱到低速加熱的廣泛條件

多步驟及循環(huán)加熱利用氣體冷卻機(jī)構(gòu)的高速氣體淬火

可以簡(jiǎn)單地從電腦上輸入溫度程序設(shè)定和外部信號(hào)

可以在電腦上顯示加熱中的溫度數(shù)據(jù)

儀器應(yīng)用:

太陽(yáng)能電池基板的熱處理

在氣氛環(huán)境下的熱處理

各種材料的基礎(chǔ)研究氣氛退火熱處理

模擬器漸變熱處理

熱循環(huán)熱沖擊試驗(yàn)研究

半導(dǎo)體材料的燒結(jié)和工藝退火爐


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